יעד טיטניום

טוֹהַר
טוהר הוא אחד ממדדי הביצועים העיקריים של היעד, מכיוון שלטהרת המטרה יש השפעה רבה על הביצועים של הסרט . עם זאת, ביישומים מעשיים, דרישות הטוהר של היעד אינן זהות {}}}, למשל, כאשר התפתחות מהירה של תעשיית המיקרו -אלקטרוניקה, התפתחות גודל הסיליקון מ -10 "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" "" " 0 . 5um עד 0 . 25um, 0.18um או אפילו 0.13um, וטהור היעד של 99.995% קודם יכול לעמוד בדרישות התהליך של 0.35umic.
תוכן טומאה
זיהומים במוצקי יעד ואדי חמצן ואדי מים בנקבוביות הם מקורות הזיהום העיקריים לסרטים שהופקדו .} יעדים למטרות שונות יש דרישות שונות לתוכן טומאה שונה {}}} לדוגמה, לדוגמא תוכן אלומיניום ואלומיניום
צְפִיפוּת
על מנת להפחית את הנקבוביות במוצק המטרה ולשפר את הביצועים של הסרט המופרז, בדרך כלל המטרה נדרשת להיות בעלת צפיפות גבוהה ., על צפיפות היעד לא רק משפיעה על קצב הפיזור, אלא גם משפיעה על המאפיינים החשמליים והופרטיים של הסרט {{1}. של היעד הופך את היעד לסוג טוב יותר לעמוד בלחץ התרמי במהלך התזת. צפיפות הוא גם אחד מאינדקס ביצועי המפתח של חומר היעד .